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Hellma Materials 源自德國光學(xué)重鎮(zhèn)耶拿,承襲百年光學(xué)制造精髓與原肖特(Schott Lithotec)光刻級晶體技術(shù),自 1922 年創(chuàng)立以來,專注于高精度光學(xué)材料與元件的研發(fā)、生產(chǎn)與加工。公司在德國耶拿自建晶體生長基地,自主培育超高純度合成氟化鈣晶體,從原材料提純、晶體生長到精密加工、質(zhì)量檢測,實現(xiàn)全流程自主把控。

分類:
1. 標準光學(xué)級 CaF?
CaF?-UV:深度優(yōu)化深紫外波段(130nm-350nm)透過率,無雜散光、無吸收峰,適配紫外光譜儀、光學(xué)檢測設(shè)備。
CaF?-IR:專注紅外波段(0.78μm-8μm)高透射性能,化學(xué)穩(wěn)定性強,適配紅外傳感、熱成像系統(tǒng)。
CaF?-POL:超高表面精度與光學(xué)均勻性,低雙折射,適配精密成像、顯微鏡、天文光學(xué)系統(tǒng)。
2.高激光損傷閾值級 CaF?
CaF?-LDT:激光損傷閾值超 10J/cm2@193nm,抗高能量脈沖激光沖擊,適配高功率工業(yè)激光系統(tǒng)。
CaF?-EXCIMER:為準分子激光專項優(yōu)化,適配 193nm、248nm 光刻激光,長期使用無性能衰減。
激光耐久分級(LD 系列):LD-A(超高級)適配 7nm 及以下先進制程光刻;LD-B(高級)適配中高能量準分子激光;LD-C 適配常規(guī)激光傳輸;LD-D(標準)適配低能量光學(xué)場景。
3.高純度電子級 CaF?
CaF?-EP:金屬雜質(zhì)含量低于 1ppm,超高純度,適配半導(dǎo)體工藝設(shè)備、真空檢測系統(tǒng)。
CaF?-VUV:突破真空紫外波段傳輸壁壘,適配 157nm 及以下深紫外科研與工業(yè)應(yīng)用。